技術特(tè)點:● 自動運行,幹進幹出 ● 設備占地麵積小 ● 去離子(zǐ)水減少高(gāo)達80% ● 工藝介質減少高達80% ● 封閉式係統 ● 可柔性多腔室組合 | 設備用途:● 顯像工藝 ● 刻蝕工藝 ● 清洗工藝 ● 剝離工藝 ● 可選配O3清洗 |
技術特點:● 自動運行,幹進幹出 ● 設備占地麵積小 ● 去離子水減少高達80% ● 工藝介質減少高達80% ● 封閉式係統 ● 可柔性(xìng)多腔室組合 | 設備(bèi)用途:● 顯像工藝 ● 刻蝕(shí)工藝 ● 清洗(xǐ)工藝 ● 剝離工藝 ● 可選配O3清洗 |
技術特(tè)點:● 自動運行,幹進幹出 ● 設備占地麵積小 ● 去離子(zǐ)水減少高(gāo)達80% ● 工藝介質減少高達80% ● 封閉式係統 ● 可柔性多腔室組合 | 設備用途:● 顯像工藝 ● 刻蝕工藝 ● 清洗工藝 ● 剝離工藝 ● 可選配O3清洗 |