技術特點:● 亞微米線寬工藝 ● 高均勻性和一(yī)致性(xìng) ● 去(qù)離子水減少高達80% ● 工藝介質減少(shǎo)高達80% ● 封(fēng)閉式係統 ● 可柔性多腔室組合(hé) | 設備用途:● 閃蝕工藝 ● 清洗工藝 ● 剝膜工藝 ● 顯像工藝 |
技術特點:● 亞微米線寬工藝 ● 高均勻性和一致性 ● 去(qù)離子水減少高達80% ● 工藝(yì)介質減少高達80% ● 封閉式係統 ● 可柔性多腔室組合 | 設備用(yòng)途:● 閃蝕工藝 ● 清(qīng)洗工藝 ● 剝膜(mó)工藝 ● 顯像工藝 |
技術特點:● 亞微米線寬工藝 ● 高均勻性和一(yī)致性(xìng) ● 去(qù)離子水減少高達80% ● 工藝介質減少(shǎo)高達80% ● 封(fēng)閉式係統 ● 可柔性多腔室組合(hé) | 設備用途:● 閃蝕工藝 ● 清洗工藝 ● 剝膜工藝 ● 顯像工藝 |